[发明专利]非挥发性存储器及其制造方法与操作方法无效

专利信息
申请号: 200610005893.4 申请日: 2006-01-19
公开(公告)号: CN101005077A 公开(公告)日: 2007-07-25
发明(设计)人: 王炳尧;杨立民 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种非挥发性存储器,是由基底、选择栅极、掺杂区、控制栅极与浮置栅极所构成的。基底中具有一沟槽。选择栅极设置于沟槽中,且选择栅极的表面低于基底表面。掺杂区设置于沟槽下方的基底中。控制栅极设置于选择栅极上。浮置栅极设置于选择栅极与控制栅极之间,且位于沟槽顶端两侧的边角处。
搜索关键词: 挥发性 存储器 及其 制造 方法 操作方法
【主权项】:
1.一种非挥发性存储器,包括:基底,该基底中具有至少沟槽;至少选择栅极,设置于该沟槽中,且该选择栅极的表面低于该基底表面;至少第一掺杂区,设置于该沟槽下方的该基底中;控制栅极,设置于该选择栅极上;以及多个浮置栅极,设置于该选择栅极与该控制栅极之间,分别位于各该沟槽顶端两侧的边角处。
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