[发明专利]曝光机机差的测量方法无效
| 申请号： | 200610005895.3 | 申请日： | 2006-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN101004554A | 公开（公告）日： | 2007-07-25 |
| 发明（设计）人： | 林柏青 | 申请（专利权）人： | 力晶半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种曝光机机差的测量方法，此方法通过将一对预先制作的匹配光掩模及匹配晶片分别配置在两个机器中进行曝光，并将两个机器曝光所得的曝光图像相减，而消除该匹配光掩模及匹配晶片本身所造成的误差，从而获得两机器间更准确的机差值，达到有效掌控机器间变化的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 机机差 测量方法 | ||
【主权项】：
1、一种曝光机机差的测量方法，适于测量待测机器的机差，该测量方法包括下列步骤：利用匹配光掩模及匹配晶片在对照机器曝光，获得第一图像；利用该匹配光掩模及该匹配晶片在该待测机器曝光，获得第二图像；将该第二图像与该第一图像相减，获得第三图像；以及移除该第三图像的线性误差，获得该机差。
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