[发明专利]线栅偏振膜和制造用于形成其线栅的模具的方法无效
| 申请号： | 200610005908.7 | 申请日： | 2006-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN1866062A | 公开（公告）日： | 2006-11-22 |
| 发明（设计）人： | 李起东 | 申请（专利权）人： | LG电子株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1333;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;杨本良 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了一种线栅偏振膜、用于制造线栅偏振膜的方法、制造用于形成其栅格的模具的方法。所述线栅偏振膜包括衬底、层叠在衬底上的栅格结构层、和在栅格结构层的一侧上形成的至少一个金属层。所述用于制造线栅偏振膜的方法包括制备衬底、将栅格结构层涂覆到衬底的上表面、在栅格结构层上形成栅格图案和在栅格图案上淀积金属层。所述制造模具的方法，包括将光致抗蚀膜涂覆到衬底上、通过激光而使用干涉条纹将所述光致抗蚀膜图案化、对所述光致抗蚀膜进行显影、在所述光致抗蚀膜上层叠用于形成线栅偏振膜的栅格图案的材料、和除去衬底和光致抗蚀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 制造 用于 形成 模具 方法 | ||
【主权项】：
1.一种线栅偏振膜，包括：衬底；层叠在衬底上的栅格结构层；以及在栅格结构层的一侧上形成的至少一个金属层。
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