[发明专利]DDR型沸石膜以及DDR型沸石膜复合物及其制造方法

摘要

本发明提供DDR型沸石膜，其特征在于：在基质上成膜，膜的主要成分为二氧化硅，同时选自二氧化碳(CO₂)、氢(H₂)、氧(O₂)、氮(N₂)、甲烷(CH₄)、正丁烷(n－C₄H₁₀)、异丁烷(i－C₄H₁₀)、六氟化硫(SF₆)、乙烷(C₂H₆)、乙烯(C₂H₄)、丙烷(C₃H₈)、丙烯(C₃H₆)、一氧化碳(CO)以及一氧化氮(NO)的至少2种气体分别在室温和100℃的单一成分气体透过率在上述至少2种气体间彼此不同。

主权项

1.一种DDR型沸石膜，其特征在于：在基质上成膜，其主要成分为二氧化硅，同时选自二氧化碳、氢、氧、氮、甲烷、正丁烷、异丁烷、六氟化硫、乙烷、乙烯、丙烷、丙烯、一氧化碳和一氧化氮的至少2种气体分别在室温和100℃的各单一气体透过率互相不同。