[发明专利]表面抛光方法及其设备有效
| 申请号： | 200610006115.7 | 申请日： | 2006-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN1803399A | 公开（公告）日： | 2006-07-19 |
| 发明（设计）人： | 张军 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B29/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 王冉;王景刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开一种抛光诸如玻璃基体、硅晶体的氧化膜和陶瓷基体的硬制易碎材料表面的方法。在所述表面抛光方法中，使用固定磨粒抛光工具，其中所述固定磨粒是颗粒类型的多孔物质，其中许多主磨粒以它们之间具有间隙的状态彼此局部粘合，其内没有粘合剂。所述表面抛光方法包括以下步骤：在固定磨粒抛光工具和将要被抛光的物体表面之间供应松散磨粒浆体；以及用所提供的松散磨粒修整固定磨粒抛光工具中的与要被抛光物体的表面相接触的磨粒的顶部。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 抛光 方法 及其 设备 | ||
【主权项】：
1、一种抛光诸如玻璃基体、硅晶体的氧化膜和陶瓷基体的硬制易碎材料表面的表面抛光方法，其中：使用固定磨粒抛光工具，其中所述固定磨粒是颗粒类型的多孔物质，其中许多主磨粒彼此局部粘合，且在它们之间具有间隙，其内没有粘合剂，并且所述表面抛光方法包括以下步骤：在固定磨粒抛光工具和将要被抛光的物体表面之间供应松散磨粒浆体；以及用所提供的松散磨粒修整固定磨粒抛光工具中的与要被抛光物体的表面相接触的磨粒的顶部。
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