[发明专利]缝隙嘴有效
申请号: | 200610006134.X | 申请日: | 2006-01-19 |
公开(公告)号: | CN1806934A | 公开(公告)日: | 2006-07-26 |
发明(设计)人: | 高濑真治;山口和伸;中西达;楫间淳生 | 申请(专利权)人: | 东京応化工业株式会社 |
主分类号: | B05B1/04 | 分类号: | B05B1/04;B05C5/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 温大鹏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种缝隙嘴,该缝隙嘴可使在基板上形成的涂膜厚度均一。在嘴半体(1)的与嘴半体(2)相面对的面上形成有涂敷液的第1蓄留部(4)以及第2蓄留部(5)。第1蓄留部(4)按如下方式形成山形,即:宽度方向的中央部最高而两端变低,变得最高的中央部是与涂敷液供给孔(6)相连通的。此外,在变得最高的中央部上连通有排气孔(7)。在上述第1蓄留部(4)的下侧连续形成有第2蓄留部(5),它的深度是以嘴半体(1)的厚度方向为基准而浅于上述第1蓄留部(4)。将该第2蓄留部(5)的下边设计成嘴半体(1)的宽度方向的中央部最低,随着向两端不断延伸而越来越高的V字状倾斜面(8)。 | ||
搜索关键词: | 缝隙 | ||
【主权项】:
1、一种缝隙嘴,在2个嘴半体的结合状态下,该缝隙嘴形成向下方开口的缝隙状排出口,其特征在于,在上述2个嘴半体中的一方上形成涂敷液的第1蓄留部,在与该第1蓄留部相连续的下侧形成第2蓄留部,该第2蓄留部以嘴半体的厚度方向为基准而浅于上述第1蓄留部,在与该第2蓄留部相连续的下侧设置平坦面,在平坦面与另一方的嘴半体之间形成下端为缝隙状排出口的开口,上述第1蓄留部按如下方式形成山形,即:与形成在嘴半体的宽度方向的中央部上的涂敷液供给孔相连通的地方最高而两端变低,此外,上述第2蓄留部的下边形成嘴半体的宽度方向的中央部最低,随着向两端不断延伸而越来越高的V字状倾斜面。
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