[发明专利]曝光设备及器件制造方法有效
申请号: | 200610006404.7 | 申请日: | 2006-01-20 |
公开(公告)号: | CN1808282A | 公开(公告)日: | 2006-07-26 |
发明(设计)人: | 杉田充朗;近江和明;米原隆夫;辻俊彦;寺师孝昭;香田彻;筒井慎二 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了在物体上形成图案的曝光设备,其包括其中排列了每个至少包括一个光源的多个基本曝光单元和在物体上形成光源图像的光学元件的曝光头结构、检测物体表面位置的传感器,以及基于传感器的检测结果通过曝光头结构控制曝光的控制器。当选择性地操作满足预定条件的多个基本曝光单元之一时,所述控制器在物体上形成图案。 | ||
搜索关键词: | 曝光 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种在物体上形成图案的曝光设备,其包括:其中排列了每个至少包括一个光源的多个基本曝光单元和在物体上形成所述光源图像的光学元件的曝光头结构;检测所述物体表面位置的传感器,以及基于所述传感器的检测结果,通过所述曝光头结构控制曝光的控制器,其中当选择性地操作满足预定条件的所述多个基本曝光单元之一时,所述控制器在物体上形成图案。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610006404.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。