[发明专利]利用二维检测器测量薄膜特性的装置及测量方法有效

专利信息
申请号: 200610006449.4 申请日: 2002-09-23
公开(公告)号: CN1808056A 公开(公告)日: 2006-07-26
发明(设计)人: 金荣烈;朴智徖;金镇庸;李仲焕 申请(专利权)人: KMAC株式会社
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;G01B11/24;G01N21/41
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王玮
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及利用反射计的原理测量单层或多层薄膜的厚度轮廓和折射率分布的非接触的,非破坏型的测量装置。根据本发明,通过采用多于一个的窄带通滤光器和一个二维矩阵的CCD传感器,并且通过利用迭代数字计算方法得到所述单层或多层薄膜的厚度和对应的折射率之间非线性函数关系的最佳解,所述装置可以同时测量衬底上所述单层或多层薄膜其中的局部区域的厚度轮廓和折射率分布。
搜索关键词: 利用 二维 检测器 测量 薄膜 特性 装置 测量方法
【主权项】:
1.一种用于测量薄膜的特性的装置,所述装置包括:包括样本载体的衬底载体单元,用于支撑并移动上面具有薄膜的衬底;包括光源的光学单元,向由衬底载体支撑的衬底上辐射所发射的入射光;滤光器单元,对特定波长范围的,辐射到衬底上的入射光或从衬底反射的光有选择地进行滤光;二维光检测器,用于以二维来检测从衬底反射的光,所述光具有由滤光器单元选择的特定波长范围;图像捕捉单元,用于获得由二维光检测器检测的反射光中包括的图像信息;图像处理单元,用于利用由所述图像捕捉单元获得的反射光中包括的图像信息计算薄膜针对特定波长范围的光的反射率;和信息处理单元,用于根据反射率计算薄膜的特性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于KMAC株式会社,未经KMAC株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610006449.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top