[发明专利]膜图案的形成方法及器件的制造方法、电光学装置及电子机器无效
| 申请号： | 200610006788.2 | 申请日： | 2006-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN1822748A | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 坂下友树;守屋克之;平井利充 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/12 | 分类号： | H05K3/12;H05K3/00;B41J2/005;B41M3/00;B41M7/00;H01L21/00;H01L27/32;H05B33/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的膜图案的形成方法，是在基板上配置功能液，从而形成膜图案的方法，包括：在基板上，形成与膜图案对应的围堰的围堰形成工序(S1)；以围堰为掩模，在围堰之间的底部形成凹凸的凹凸形成工序(S4)；在形成了凹凸的围堰之间，配置功能液的材料配置工序(S5)。提高能够稳定地形成细微而且高性能的膜图案的膜图案的形成方法。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 器件 制造 光学 装置 电子 机器 | ||
【主权项】：
1、一种膜图案的形成方法，是通过在基板上配置功能液，从而形成膜图案的方法，其特征在于，包括：在所述基板上，形成与所述膜图案对应的围堰的围堰形成工序；以所述围堰为掩模，在围堰之间的底部形成凹凸的凹凸形成工序；以及在形成有所述凹凸的所述围堰之间，配置所述功能液的材料配置工序。
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