[发明专利]膜图案的形成方法、器件及其制造方法、电光学装置无效
| 申请号： | 200610006988.8 | 申请日： | 2006-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN1816255A | 公开（公告）日： | 2006-08-09 |
| 发明（设计）人： | 守屋克之;平井利充 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/12 | 分类号： | H05K3/12;H05K3/00;B41J2/005;H01L21/00;H01L27/32;H05B33/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 具有在基板(P)上形成贮格围堰(B)的工序、在由贮格围堰(B)划分的区域中配置功能液(L)的工序、使基板(P)上配置的功能液(L)干燥形成膜图案(F)的工序。在基板(P)上形成由贮格围堰的形成材料构成的薄膜(B0)，对其表面进行疏液处理后，通过图案化形成贮格围堰(B)。据此，成为只有贮格围堰(B)的上表面疏液，贮格围堰(B)的侧面未疏液的状态(对功能液(L)湿润性良好的状态)，所以在配置功能液(L)时，能顺利湿润扩展到贮格围堰间。提供能以高精度稳定形成实现微细化或细线化的膜图案的薄膜图案的形成方法。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 器件 及其 制造 光学 装置 | ||
【主权项】：
1.一种膜图案的形成方法，通过在基板上配置功能液，形成膜图案，其特征在于，具有：在所述基板上形成贮格围堰的工序；在由所述贮格围堰划分的区域中配置所述功能液的工序；使配置在所述基板上的所述功能液干燥的工序；所述贮格围堰的形成工序，包括：在所述基板上形成由所述贮格围堰的形成材料构成的薄膜的工序、对所述薄膜的表面进行疏液处理的工序、将所述薄膜图案化为所述贮格围堰的形状的工序。
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