[发明专利]涂敷、显影装置和涂敷、显影方法

摘要

涂敷·显影装置具备：处理块，在晶片上形成抗蚀剂膜后将其运送至曝光装置，并对曝光后的基板进行显影处理；和接口运送机构，设在处理块和曝光装置之间，上述处理块具有涂敷抗蚀剂的涂敷膜形成用单位块、和进行显影处理的显影处理用单位块，并另外设置有涂敷膜形成用单位块运送机构和显影处理用单位块运送机构。另外，调整把曝光后的基板从接口块运送机构交接至交接台后，由显影处理用单位块运送机构接取该基板的时刻，以使从该基板曝光到运入加热单元的时间为预先设定的时间。

主权项

1.一种涂敷·显影装置，具备：处理块，对基板进行包含抗蚀剂膜的涂敷膜的形成、对其涂敷膜实施的曝光后的显影、和这些处理附带的热处理；接口块，设在上述处理块和对基板上形成的涂敷膜进行曝光处理的曝光装置之间，在它们之间运送基板；交接台，用于在从上述接口块将曝光后的基板交接至上述处理块时暂时载置基板；和控制部，控制基板的运送，在上述处理块中对基板形成涂敷膜后，将上述基板经由上述接口块运送至上述曝光装置，并使曝光后的基板经由上述接口块返回上述处理块，在处理块中进行曝光后加热，然后进行显影处理，其特征在于，上述处理块具有：涂敷膜形成用单位块，具备：多个处理单元，包括用于在基板上涂敷涂敷液的涂敷处理单元和加热涂敷有涂敷液的基板的加热单元，进行用于涂敷处理的一系列处理；和涂敷膜形成用单位块运送机构，在这多个处理单元之间运送基板；和显影处理用单位块，具备：多个处理单元，包括用于对曝光了的基板进行加热处理的曝光后加热单元和曝光后在加热了的基板上涂敷显影液的显影液涂敷单元，进行用于显影处理的一系列处理；和显影处理用单位块运送机构，在这多个处理单元之间运送基板，上述接口块具有：用于在上述处理块和上述曝光装置之间进行基板交接的接口块运送机构，上述控制部调整在由上述接口块运送机构把曝光后的基板运送至上述交接台时，由上述显影处理用单位块运送机构进行该基板的接取的时刻，以使从该基板曝光后到在上述曝光后加热单元中开始加热的时间为预先设定的时间。