[发明专利]正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法有效
申请号: | 200610007165.7 | 申请日: | 2002-11-29 |
公开(公告)号: | CN1818785A | 公开(公告)日: | 2006-08-16 |
发明(设计)人: | 岩井武;久保田尚孝;藤村悟史;宫入美和;羽田英夫 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 陈长会 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供了一种正型树脂组合物,它含有:(A)一种树脂组分,它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元,并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团,因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度;(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分;及(C)有机溶剂,其中组分(A)含有下列两种结构单元:丙烯酸酯衍生的结构单元(al),其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团;及甲基丙烯酸酯衍生的结构单元(al′),其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团。依据这种抗蚀剂组合物,可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙,且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。 | ||
搜索关键词: | 正型抗蚀剂 组合 使用 形成 图形 方法 | ||
【主权项】:
1.一种正型抗蚀剂组合物,它含有:(A)一种树脂组分,树脂组分主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元,在酯基侧链部分结合了包含可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团,由此在酸作用下它在碱中的溶解度增加了;(B)一种曝光时产生酸的产酸剂组分;及(C)一种有机溶剂;其中:所述组分(A)含有下列两种结构单元:丙烯酸酯衍生的结构单元(a1),其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团;及甲基丙烯酸酯衍生的结构单元(a1′),其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团。
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