[发明专利]基板结构及薄膜图案层的制造方法无效
| 申请号： | 200610007266.4 | 申请日： | 2006-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN101021685A | 公开（公告）日： | 2007-08-22 |
| 发明（设计）人： | 周景瑜 | 申请（专利权）人： | 虹创科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/32;G02F1/133;G02B5/23;B41J2/01 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周春发 |
| 地址： | 台湾省新竹科学工业园*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板结构，其包括一个基板及多个形成在该基板上的挡墙。该多个挡墙及基板间形成多个第一收容空间，第一收容空间用于收容一部喷墨装置喷入的墨水，两相邻的第一收容空间之间的挡墙进一步包括至少一个第二收容空间，第二收容空间用于收容过量填充而从所述第一收容空间溢出的墨水。藉此可避免两相邻第一收容空间内的墨水相混。本发明还涉及一种薄膜图案层的制造方法，其步骤如下：提供一种上述基板结构；通过一部喷墨装置将墨水填充在第一收容空间中；干燥固化第一收容空间中的墨水而形成薄膜图案层。 | ||
| 搜索关键词： | 板结 薄膜 图案 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板结构，包括：一个基板；及多个形成在该基板上的挡墙，该多个挡墙及基板间形成多个第一收容空间，该第一收容空间用于收容一部喷墨装置喷入的墨水；其特征在于：两相邻的第一收容空间之间的挡墙进一步包括至少一个第二收容空间，该第二收容空间用于收容过量填充而从所述第一收容空间溢出的墨水。
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