[发明专利]喷墨头擦拭装置及喷墨头清洁方法无效
| 申请号： | 200610007267.9 | 申请日： | 2006-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN101020390A | 公开（公告）日： | 2007-08-22 |
| 发明（设计）人： | 郑振兴;周景瑜;洪宗裕 | 申请（专利权）人： | 虹创科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/165 | 分类号： | B41J2/165;B41J2/18;B41J2/16 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周春发 |
| 地址： | 台湾省新竹科学工业园*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种喷墨头擦拭装置，其包括一个擦拭介质、一个张力装置及一个支撑装置。该擦拭介质用以清洁喷墨头表面。该张力装置提供给擦拭介质一个张力。支撑装置用以支撑擦拭介质，并在擦拭介质与喷墨头接触的正下方部位为悬空结构。该悬空结构可避免喷墨头直接被硬物顶压，可延长喷墨头的使用寿命。本发明还涉及一种喷墨头清洁方法，其步骤如下：提供一个前述的喷墨头擦拭装置；擦拭装置与喷墨头进行相对运动，使喷墨头与擦拭装置的擦拭介质相接触；喷墨头与擦拭介质相分离。该清洁方法在有效清洁喷墨头的同时，能对喷墨头起保护作用。 | ||
| 搜索关键词： | 喷墨 擦拭 装置 清洁 方法 | ||
【主权项】：
1.一种喷墨头擦拭装置，其特征在于包括：一个擦拭介质，用以清洁喷墨头表面；一个张力装置，用以提供给擦拭介质一个张力；一个支撑装置，用以支撑擦拭介质，并在擦拭介质与喷墨头接触的正下方部位为悬空结构。
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