[发明专利]低压处理机台的维护方法及其输送装置无效
申请号: | 200610007764.9 | 申请日: | 2006-02-20 |
公开(公告)号: | CN1808283A | 公开(公告)日: | 2006-07-26 |
发明(设计)人: | 黄庭辉 | 申请(专利权)人: | 广辉电子股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 任默闻 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种低压处理机台的维护方法及其输送装置。该输送装置包括一第一气压致动器、一第二气压致动器、第一滑动组件、第二滑动组件、一支撑结构以及连结组件。第一滑动组件设于第一气压致动器之上;第二滑动组件设于第二气压致动器之上;支撑结构设于第一气压致动器与第二气压致动器之间;连结组件设于支撑结构之上。应用本发明的输送装置,可将低压处理机台的壳体从基座拆卸及移动以进行清洁。因此,可以在原壳体(第一壳体)拆卸之后,直接以另一壳体(第二壳体)替换安装至基座之上,而继续低压处理机台的运作,藉此可缩短低压处理机台的停机时间,避免产能的损失以及时间与金钱的浪费。 | ||
搜索关键词: | 低压 处理 机台 维护 方法 及其 输送 装置 | ||
【主权项】:
1.一种输送装置,用以输送一低压处理机台的一壳体,其特征在于,所述输送装置包括:一第一气压致动器;一第二气压致动器;至少一第一滑动组件,设于第一气压致动器之上;至少一第二滑动组件,设于第二气压致动器之上;一支撑结构,设于第一气压致动器与第二气压致动器之间;以及至少一连结组件,设于支撑结构之上,用以连接所述壳体。
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