[发明专利]形成微透镜的方法与半导体影像感测装置有效
| 申请号： | 200610007891.9 | 申请日： | 2006-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN1952784A | 公开（公告）日： | 2007-04-25 |
| 发明（设计）人： | 高铭昌;张志光;翁福田;张笔政 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L27/148 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 台湾省新竹科学*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种形成微透镜的方法与半导体影像感测装置。首先，提供一基底，而基底具有至少一光感测元件。接着，于该基底上，形成一光敏层。以一光罩进行第一次曝光。以该光罩进行第二次曝光。去除部分的该光敏层，以使存留的部分的该光敏层形成至少一微透镜。对该微透镜进行回流。本发明所述的形成微透镜的方法与半导体影像感测装置，可以制作比较薄且焦距长的透镜，而且能够降低微透镜两两粘合的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 透镜 方法 半导体 影像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种形成微透镜的方法，其特征在于，该形成微透镜的方法包含有：提供一基底，具有至少一光感测元件；于该基底上，形成一光敏层；对于该光敏层进行第一次曝光；对于该光敏层进行第二次曝光；去除部分的该光敏层，以使存留的部分的该光敏层形成至少一微透镜；以及对该微透镜进行回流。
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