[发明专利]用于制备多组分薄膜的多蒸发源系统无效
| 申请号： | 200610008066.0 | 申请日： | 2006-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN1814855A | 公开（公告）日： | 2006-08-09 |
| 发明（设计）人： | 樊菁;舒勇华;刘宏立 | 申请（专利权）人： | 中国科学院力学研究所 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 尹振启 |
| 地址： | 100080北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于制备多组分薄膜的多蒸发源系统，包括真空室，真空室内布设有多个电子枪加热蒸发源，每个电子枪蒸发源包括一电子枪、一传感器和一坩锅，两两蒸发源之间均设置有电磁屏蔽装置。与现有技术相比，本发明通过在两两电子枪加热蒸发源之间设置电磁屏蔽装置后，有效地避免了电子枪之间的磁场干扰问题，保证了电子枪产生的电子束能够按照既定方向作用于蒸发材料，为多源多枪薄膜制备方法的应用创造了条件。同时，在传感器的端部设置套筒后，使得每个传感器只定向接收相对应蒸发源发出的蒸发粒子，既保证了传感器的检测准确性，又使探头不致接收过多到的蒸发粒子，从而有助于延长传感器的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制备 组分 薄膜 蒸发 系统 | ||
【主权项】：
1、一种用于制备多组分薄膜的多蒸发源系统，包括真空室，真空室内布设有多个电子枪加热蒸发源，每个电子枪蒸发源包括一电子枪、一传感器和一坩锅，两两蒸发源之间均设置有电磁屏蔽装置。
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