[发明专利]开口滤光器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610008251.X 申请日: 2006-02-16
公开(公告)号: CN1821820A 公开(公告)日: 2006-08-23
发明(设计)人: 濑户口一稔;吉田清和;古里大喜 申请(专利权)人: 爱普生拓优科梦株式会社
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G11B7/16;G03F7/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 李辉
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于,提供一种在玻璃基板上形成多种光学薄膜以构成开口滤光器时,减少在光学薄膜间产生的相位阶梯差的开口滤光器。在开口滤光器(10)的玻璃基板(11)的A区(第一区)形成第一光学薄膜(12),在玻璃基板(11)的B区(第二区)形成第二光学薄膜(13)。第一光学薄膜(12)和第二光学薄膜(13)是不同的薄膜结构,具有在A区成膜的第一光学薄膜(12)以大于等于95%的透射率使780nm、660nm和405nm波长的光线透过,在B区成膜的第二光学薄膜(13)以大于等于95%的透射率使660nm和405nm波长的光线透过而将780nm波长的光线抑制为小于等于4%的透射率的特性。另外,在第一光学薄膜(12)和第二光学薄膜(13)成膜后,进行刻蚀以消除相位阶梯差。
搜索关键词: 开口 滤光 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种开口滤光器,具有在入射了多个波长的光线时使所有波长的光线透过的第一区和阻止规定波长的光线透过的第二区,其特征在于:作为在第一区所形成的第一光学薄膜和在第二区所形成的第二光学薄膜的各自的最表面层的薄膜材料,使用不同材质的材料,在所述第一光学薄膜和第二光学薄膜成膜后,通过进行刻蚀来调整所述第一光学薄膜或第二光学薄膜中某一方的光程。
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