[发明专利]等离子体产生装置有效
| 申请号： | 200610008302.9 | 申请日： | 2006-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN1822745A | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 权基中;李尚元;伍赛宪;金宰贤;洪宝翰;李英关 | 申请（专利权）人： | 周星工程股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H05H1/30;H01J37/32;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王允方;刘国伟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种等离子体产生装置包括：一腔室，其具有一腔室盖并界定一气密反应区域；一在所述腔室中的基座；一气体供应构件，其将一制程气体供应到所述腔室；和一环形铁芯，其穿过所述腔室盖相对于所述基座垂直设置，所述环形铁芯包含：一与所述腔室相组合的环形铁磁芯，所述环形铁磁芯具有一在所述腔室外的第一部分和一在所述腔室内的第二部分，所述第二部分具有一开口部分；一连接到所述腔室的射频(RF)电源；一电连接到所述RF电源的感应线圈，所述感应线圈卷绕所述第一部分；和一匹配电路，其匹配所述RF电源与所述感应线圈之间的一阻抗。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 产生 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体产生装置，其包含：一腔室，其具有一腔室盖并界定一气密反应区域；一在所述腔室中的基座；一气体供应构件，其用于将一制程气体供应到所述腔室；和一环形铁芯，其穿过所述腔室盖相对于所述基座垂直设置，其包含：一与所述腔室相组合的环形铁磁芯，所述环形铁磁芯具有一在所述腔室外的第一部分和一在所述腔室内的第二部分，所述第二部分具有一开口部分；一连接到所述腔室的射频(RF)电源；一电连接到所述RF电源的感应线圈，所述感应线圈卷绕所述第一部分；和一匹配电路，其用于匹配所述RF电源与所述感应线圈之间的一阻抗。
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