[发明专利]灰调掩模的制造方法及灰调掩模

摘要

在形成了具有遮光部、透光部以及半透光部的装置图形；以及用于位置对齐的标记图形的灰调掩模的制造方法中，具有：准备在透明基板上至少形成了遮光膜的掩模版的步骤；遮光部图形形成步骤，其中包括下述步骤：形成第1抗蚀图形，将该第1抗蚀图形作为掩模，蚀刻遮光膜；在形成了遮光部图形的透明基板上形成半透光膜的步骤；以及半透光部图形形成步骤，其中包括下述步骤：形成第2抗蚀图形，将该第2抗蚀图形作为掩模，蚀刻半透光膜，在遮光部图形形成步骤中，在形成遮光部图形的同时，形成具有遮光部和透光部的所期望的标记图形，在半透光部图形形成步骤中的第2描绘图形的描绘之前，具有使得在上述标记图形中的透光部不存在半透光膜的步骤。

主权项

1.一种灰调掩模的制造方法，该灰调掩模形成了具有遮光部、透光部以及半透光部的装置图形，以及用于位置对齐的标记图形，该灰调掩模的制造方法的特征在于，具有：准备在透明基板上至少形成了遮光膜的掩模版的步骤；遮光部图形形成步骤，其中包括下述步骤：在用于形成遮光部图形的第1抗蚀膜上描绘第1描绘图形，进行显影，形成第1抗蚀图形，将该第1抗蚀图形作为掩模，对上述遮光膜进行蚀刻；在形成了上述遮光部图形的透明基板上形成半透光膜的步骤；以及半透光部图形形成步骤，其中包括下述步骤：为了形成半透光部图形，在上述半透光膜上所形成的第2抗蚀膜上描绘第2描绘图形，进行显影，形成第2抗蚀图形，将该第2抗蚀图形作为掩模，对上述半透光膜进行蚀刻，其中，在上述遮光部图形形成步骤中，在形成遮光部图形的同时，形成具有遮光部和透光部的所期望的标记图形，在上述半透光部图形形成步骤中的第2描绘图形的描绘之前，具有使得在上述标记图形的透光部中不存在半透光膜的步骤。