[发明专利]碳纳米管结构及其制造方法、场发射装置及其制造方法无效
申请号: | 200610008640.2 | 申请日: | 2006-02-20 |
公开(公告)号: | CN1830766A | 公开(公告)日: | 2006-09-13 |
发明(设计)人: | 韩仁泽;金夏辰 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
主分类号: | C01B31/02 | 分类号: | C01B31/02;B82B3/00;H01J29/02;H01J31/12;H01J9/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李晓舒;魏晓刚 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供CNT结构及其制造方法、以及利用该CNT结构的FED装置及其制造方法。该CNT结构包括基板、涂覆在基板上具有预定尺寸的多个缓冲颗粒、通过对在基板上沉积至预定厚度从而覆盖缓冲颗粒的催化剂材料进行退火而形成在缓冲颗粒的表面上的多个催化剂层、以及从催化剂层生长的多个CNT。 | ||
搜索关键词: | 纳米 结构 及其 制造 方法 发射 装置 | ||
【主权项】:
1.一种碳纳米管结构(CNT结构),包括:基板;多个缓冲颗粒,其具有预定尺寸且涂覆在所述基板上;多个催化剂层,其通过对在所述基板上沉积至预定厚度从而覆盖所述缓冲颗粒的催化剂材料进行退火而形成在所述缓冲颗粒的表面上;以及多个CNT,其从所述催化剂层生长。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610008640.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:传动装置用导向件
- 下一篇:带有枢转齿轮机构的打印机