[发明专利]一种以蒙脱土为模板制备高分子单链单晶的方法

摘要

本发明提供了一种以蒙脱土为模板制备高分子单链单晶的方，属于高分子单链单晶合成的技术领域。采用蒙脱土为模板，将阳离子聚合物单体通过离子交换作用引入到蒙脱土层板中，通过静电作用实现了单体在模板中的规则有序排布。加入引发剂引发聚合后，蒙脱土中得到的聚合物有别于常规聚合反应得到的聚合物，而是结构规整的单晶，然后将其从蒙脱土中释放收集。本发明的优点在于：制备工艺简单，易于操作控制，适用范围广泛。

主权项

1、一种以蒙脱土为模板制备高分子单链单晶的化学方法，采用蒙脱土为模板，将阴离子粘土蒙脱土的可插层性能应用到高分子聚合反应中，先将可聚合的阳离子单体通过离子交换插入到蒙脱土层间，通过静电作用组装使单体规则排布，然后引发单体聚合反应；得到的聚合物具有规整的结构，形成聚合物单晶，然后从蒙脱土模板中释放收集得到高分子单链单晶；制备步骤为：a.将阳离子单体加入到蒙脱土水溶液中，溶液中单体浓度为0.1-10.0wt％，蒙脱土浓度为1.0-10.0wt％，搅拌6～24小时进行离子交换，搅拌温度为10～80℃，然后用去离子水清洗除去模板外的单体，再在60～80℃干燥18～48h，得到层间客体为所插入阳离子单体的蒙脱土；b.将步骤a得到所插入阳离子单体的蒙脱土分散到去离子水中，模板浓度为1.0-10.0wt％，引发剂浓度为0.1-10.0wt％，加热反应2～48h，反应温度为40～80℃，使模板内的阳离子单体发生聚合反应，然后过滤、洗涤，并在60～80℃干燥18～48小时，得到层间客体为聚合物的蒙脱土；c.用浓度为1.0-40.0wt％氢氟酸将步骤b得到的蒙脱土的层板溶解，再用不良溶剂将聚合物从水溶液中沉析出来，洗涤干燥得到聚合物单链单晶。