[发明专利]砷化镓/砷化铝分布布拉格反射镜的湿法腐蚀方法无效
| 申请号： | 200610011792.8 | 申请日： | 2006-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN101064411A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 李若园;徐波;王占国 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183;H01S5/187;C23F1/16;H01L21/3063 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 100083北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种砷化镓/砷化铝分布布拉格反射镜的湿法腐蚀方法，其特征在于，包括如下步骤：(A)在衬底上，使用分子束外延的方法外延生长砷化镓缓冲层；(B)在砷化镓缓冲层上生长多个周期分布布拉格反射镜；(C)对分布布拉格反射镜进行光刻，形成光刻胶图形，该光刻胶图形中光具有光刻胶保护的条宽；(D)用腐蚀溶液腐蚀掉部分周期的分布布拉格反射镜；(E)然后交替使用腐蚀溶液和选择性腐蚀液分别腐蚀分布布拉格反射镜，以便能够精确达到所要求的腐蚀深度。 | ||
| 搜索关键词： | 砷化镓 砷化铝 分布 布拉格 反射 湿法 腐蚀 方法 | ||
【主权项】：
1、一种砷化镓/砷化铝分布布拉格反射镜的湿法腐蚀方法，其特征在于，包括如下步骤：(A)在衬底上，使用分子束外延的方法外延生长砷化镓缓冲层；(B)在砷化镓缓冲层上生长多个周期分布布拉格反射镜；(C)对分布布拉格反射镜进行光刻，形成光刻胶图形，该光刻胶图形中光具有光刻胶保护的条宽；(D)用腐蚀溶液腐蚀掉部分周期的分布布拉格反射镜；(E)然后交替使用腐蚀溶液和选择性腐蚀液分别腐蚀分布布拉格反射镜，以便能够精确达到所要求的腐蚀深度。
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