[发明专利]一种带Z型光度检测池的微流控芯片的制作方法无效
申请号: | 200610012232.4 | 申请日: | 2006-06-13 |
公开(公告)号: | CN1865924A | 公开(公告)日: | 2006-11-22 |
发明(设计)人: | 罗国安;任康宁;梁琼麟;王义明;姚波 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G01N21/31 | 分类号: | G01N21/31;G06F17/50 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐宁;关畅 |
地址: | 100084*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种带Z型光度检测池的微流控芯片的制作方法,它包括以下步骤:1)利用绘图软件绘制芯片中上、下两层通道的图形并输出;2)采用常规光刻方法制出两张阳模,并进行烷基化处理;3)在两所述阳膜中间垫入一U形垫圈,形成一U形液槽;4)向所述U形液槽内灌入经过真空脱气处理的聚二甲基硅氧烷单体和引发剂,并真空加热固化;5)拆开两侧阳模得到PDMS薄片,并打孔;6)制作两上、下盖片,7)将上、下盖片与PDMS薄片贴合在一起,并用光源进行照射,即得含有Z型光度检测池的微流控芯片。本发明方法无需任何高标准的仪器设备即可随时制作,而且加工过程简便易行,成本低。本发明方法可以广泛用于各种微流控芯片的加工制作中。 | ||
搜索关键词: | 一种 光度 检测 微流控 芯片 制作方法 | ||
【主权项】:
1、一种带Z型光度检测池的微流控芯片的制作方法,它包括以下步骤:1)利用绘图软件绘制芯片中上、下两层通道的图形并输出,所述上层图形包括上层通道、储液池凹槽,储液池通孔和Z型池通孔,下层图形包括下层通道、储液池通孔及Z型池通孔;2)采用常规光刻方法制出两张阳模,两所述阳模的一面分别刻有凸起的图形,然后采用常规方法对阳模表面进行烷基化处理;3)将两所述阳模的凸起图形对准,且在两所述阳膜中间垫入一U形垫圈,然后用夹具夹紧所述两阳模垂直加压固定,形成一U形液槽;4)将所述U形液槽开口向上,向所述U形液槽内灌入经过真空脱气处理的聚二甲基硅氧烷单体和引发剂,并将所述U形液槽置于真空烘箱中,在0.005~0.02MPa真空度下,50~55℃加热3~5h至完全固化;5)然后取出U形液槽,拆开两侧阳模得到双面刻有凹通道槽和凹储液池通孔槽,顶面刻有储液池凹槽的PDMS薄片,用打孔设备在所述PDMS薄片上打通Z型池通孔连通上下层通道,打通PDMS薄片上的所述储液池通孔;6)用常规方法制作出两片厚度为20~200um的PDMS薄膜,其中一片不含结构的PDMS薄膜作为下盖片,另一片PDMS薄膜作为上盖片,在与所述PDMS薄片上的储液池凹槽和储液池通孔相对应开设通孔;7)将步骤6)制作好的PDMS薄片放置在所述上盖片和下盖片之间作为中间片,采用常规方法将上、下盖片和中间片贴合在一起,并用光源进行照射,即得含有Z型光度检测池的微流控芯片。
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