[发明专利]反铁磁耦合的磁性颗粒薄膜材料及其制备和应用

摘要

本发明涉及反铁磁耦合的磁性颗粒薄膜材料及其制备和应用，组成为Fe_x(TiO₂) _1－x，其中x为铁的金属颗粒所占的体积百分比，0.40＜x＜0.76。本发明是采用直流磁控溅射技术，在氩气和氧气的混合气氛中，控制铁靶的溅射功率沉积。基片为玻璃、石英、聚酯、单晶硅、单晶砷化镓等，溅射时基片不加热。本发明的Fe_x(TiO₂) _1－x磁性颗粒薄膜的最大磁电阻数值为－29.3％，室温磁电阻数值大于－10％。本发明制备的Fe_x(TiO₂) _1－x磁性颗粒薄膜具有高磁电阻数值、制备工艺简单、成本低、适用于多种基片等优点，可用来制作计算机读出磁头、磁随机存储器、微弱磁场检测、位置检测等磁敏传感器件。

主权项

1、一种反铁磁耦合的磁性颗粒薄膜材料，其特征在于它是在基片上制成的反铁磁耦合的磁性颗粒薄膜，磁性颗粒薄膜的组成为Fex(TiO2)1-x，其中x为材料中铁的金属颗粒所占的体积百分比，0.40＜x＜0.76，Fe金属颗粒的直径在4～34纳米。