[发明专利]磁性颗粒薄膜材料及其制备方法和应用无效
| 申请号： | 200610013057.0 | 申请日： | 2006-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN1805079A | 公开（公告）日： | 2006-07-19 |
| 发明（设计）人： | 刘晖;王雅欣;王健 | 申请（专利权）人： | 南开大学 |
| 主分类号： | H01F10/14 | 分类号： | H01F10/14;H01F41/18;H01F41/16;G01R33/09;H01L43/06;H01L43/12 |
| 代理公司： | 天津市学苑有限责任专利代理事务所 | 代理人： | 赵尊生 |
| 地址： | 300071天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及磁性颗粒薄膜材料及其制备方法和应用。它是在基片上制成磁性颗粒薄膜，磁性颗粒薄膜的组成是(NiFe) xGe1－x，其中x为镍铁合金颗粒所占的体积百分比，0.52～0.58，薄膜厚度在4～8纳米。本发明的磁性颗粒薄膜采用磁控溅射法制备，先将高纯度的氩气通入真空室，然后将超高真空闸板阀的开启度降为20％；锗靶上加25瓦的射频功率，根据成分的要求，在镍铁合金靶上加以12～20瓦的直流功率。本发明的磁性颗粒薄膜具有制备工艺简单、成本低、灵敏度高、工作温度范围宽、器件尺寸小等特点，因而在航空、航天、军事等领域具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性 颗粒 薄膜 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1、一种磁性颗粒薄膜材料，其特征在于它是在基片上制成磁性颗粒薄膜，磁性颗粒薄膜的组成是(NiFe)xGe1-x，其中x为镍铁合金的金属颗粒所占的体积百分比，0.40＜x＜0.60；Ni∶Fe＝80∶20，原子比；薄膜厚度4～8纳米；所述的基片是玻璃、石英、单晶硅或单晶砷化镓。
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