[发明专利]在医用热解碳和TiN薄膜上制备富银抗菌膜的方法

摘要

本发明涉及一种在在医用热解碳和TiN薄膜上制备富银抗菌膜的方法。解决了抗菌问题。方案：在热解碳上a.抛光清洗；b.抽真空；c.1keV的氮离子束溅射清洗5分钟；d.银离子注入：能量70、30keV，束流：2－8mA，剂量2×10¹⁴/cm²－3×10¹⁴/cm²，热解碳均匀富银层抗菌率达到100％。在TiN薄膜上：a.b.c.同上；d.用3keV、80mA的Ar⁺离子溅射Ti靶，同时：20－40keV、束流：2－8mA的高能N⁺离子束轰击10－20分钟；50－350eV、束流：10－30mA的低能N⁺离子束轰击60－180分钟辅助沉积，N₂气压8×10³Pa；e.银离子注入：30－80keV，束流：2－8mA，剂量1×10¹⁷/cm²－5×10¹⁸/cm²，形成均匀富银TiN抗菌薄膜抗菌率达到90％。其耐磨性好、附着力强、抗腐蚀、良好的细胞相容性抗菌时效长等特点，可应用制备人工心脏瓣膜和用于植入人体的硬组织替代材料，且环保无任何污染。

主权项

1.一种在医用热解碳和TiN薄膜上制备富银抗菌膜的方法，其特征是采用高能、低能相结合的离子注入方法，使其注银总计量达到5×1014/cm2--5×1018/cm2，具体步骤如下：A.制备富银抗菌膜热解碳的步骤a.将抛光清洗好的热解碳放入旋转水冷样品台上b.抽真空使本底真空度高于1×10-3Pac.用能量为1keV的氮离子束进行溅射清洗5分钟d.银离子注入：分别用70keV、30keV双重能量，注入剂量2×1014/cm2--3×1014/cm2，的银离子，形成总剂量为5×1014/cm2----5×1016/cm2的均匀富银层，富银抗菌膜热解碳抗菌率达到100％；B.在医用不锈钢基材的TiN薄膜上制备富银抗菌膜的步骤a..将抛光清洗好的医用不锈钢放入旋转水冷样品台上b.抽真空使本底真空度高于1×10-3Pac.用能量为1keV的氮离子束进行溅射清洗5--15分钟d.用3keV、80mA的Ar+离子溅射Ti靶，进行薄膜沉积，与此同时：用高能30-50keV、束流：2-8mA的高能N+离子束轰击，作用时间：10-20分钟；低能量50-350eV、束流：10-30mA的低能N+离子束轰击，作用时间为60-180分钟进行辅助沉积，沉积过程中样品台始终保持自转，氮气分压为8×10-3Pa；e.银离子注入：采用80keV、30keV双重能量，注入剂量为2×1017/cm2--3×1018/cm2 的银离子，形成总剂量为5×1017/cm2---5×1018/cm2的均匀富银层，形成富银TiN抗菌薄膜抗菌率达到90％。