[发明专利]用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液无效
| 申请号： | 200610013978.7 | 申请日： | 2006-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN1858132A | 公开（公告）日： | 2006-11-08 |
| 发明（设计）人： | 刘玉岭;武晓玲 | 申请（专利权）人： | 河北工业大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/04 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 | 代理人： | 闫俊芬 |
| 地址： | 30013*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液的成分和体积％比组成如下：硅溶胶30～90；有机胺碱1～10；活性剂0.5～5；KOH溶液0.5～5；去离子水为余量。在CMP条件，将微晶玻璃的主体二氧化硅(酸性氧化物)在高pH值下快速转化为可溶性硅酸盐，用复合碱形成高pH值，采用均一性好易清洗的硅溶胶做磨料，有机碱和活性剂使二氧化硅溶胶胶核形成一个稳定的膜，使pH在大于12.5仍很稳定，不会发生溶解。本发明有效解决划伤问题，且抛光速率高，流动性好，无沉淀产生，易于清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 玻璃 研磨 抛光 | ||
【主权项】：
1.一种用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液，其特征是，所述抛光液的成分和体积％比组成如下：硅溶胶30～90； 有机胺碱1～10；活性剂0.5～5； KOH溶液0.5～5；去离子水余量。
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