[发明专利]用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液无效
| 申请号： | 200610013979.1 | 申请日： | 2006-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN1858133A | 公开（公告）日： | 2006-11-08 |
| 发明（设计）人： | 刘玉岭;刘长宇;牛新环;康静业 | 申请（专利权）人： | 河北工业大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/04 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 | 代理人： | 闫俊芬 |
| 地址： | 30013*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光的纳米SiO2水溶胶为磨料的碱性抛光液。本发明抛光液的成分和重量％比组成如下：螯合剂0.5－10、pH值调节剂0.5－5、硅溶胶50－90、表面活性剂0.5－5、氧化剂0.5－10、去离子水为余量。本发明是在碱性环境下，具有强螯合作用，磨料是粒径小、浓度高、分散性好的二氧化硅水溶胶，抛光过程中以化学作用为主，通过添加螯合剂、活性剂解决了最终表面粗糙度、波纹度和表面缺陷等传统问题。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 计算机 硬盘 化学 机械抛光 抛光 | ||
【主权项】：
1.一种用于计算机硬盘基片化学机械抛光的抛光液，其特征是，所述抛光液的成分和重量％比组成如下：螯合剂0.5-10； pH值调节剂0.5-5；硅溶胶50-90； 表面活性剂0.5-5；氧化剂0.5-10； 去离子水 余量。
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