[发明专利]用于磷酸氧钛钾晶体的化学机械抛光液无效
申请号: | 200610014296.8 | 申请日: | 2006-06-09 |
公开(公告)号: | CN1865374A | 公开(公告)日: | 2006-11-22 |
发明(设计)人: | 刘玉岭;王胜利 | 申请(专利权)人: | 河北工业大学 |
主分类号: | C09G1/14 | 分类号: | C09G1/14 |
代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司 | 代理人: | 闫俊芬 |
地址: | 30013*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学作用强,易于清洗,有效解决了划伤问题,抛光速率高,流动性好的用于磷酸氧钛钾晶体的化学机械抛光液。本发明抛光液的成分和重量%如下:纳米SiO2溶胶10-90、无机碱和有机碱0.5-10、非离子表面活性剂0.5-10、螯合剂0.5-10、去离子水为余量。本发明是应用于磷酸氧钛钾晶体化学机械抛光,能够有效避免表面划伤,提高表面平整度,并且容易清洗。 | ||
搜索关键词: | 用于 磷酸 氧钛钾 晶体 化学 机械抛光 | ||
【主权项】:
1.一种用于磷酸氧钛钾晶体的化学机械抛光液,其特征是,所述抛光液的成分和重量%如下:纳米SiO2溶胶 10-90;无机碱和有机碱 0.5-10;非离子表面活性剂 0.5-10;螯合剂 0.5-10;去离子水 余量。
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