[发明专利]微纳结构3D轮廓测量中基于坐标变换的倾斜误差补偿方法有效

专利信息
申请号: 200610015496.5 申请日: 2006-08-30
公开(公告)号: CN1912540A 公开(公告)日: 2007-02-14
发明(设计)人: 栗大超;黄玉波;傅星;胡小唐 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: G01B21/20 分类号: G01B21/20;G01B11/24;G01N13/10
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 代理人: 江镇华
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种微纳结构3D轮廓测量中基于坐标变换的倾斜误差补偿方法,是由如下过程完成的:1.采集被测物表面干涉图,得到被测物表面初始轮廓图;2.确定被测物的基准平面;3.进行坐标系旋转,使新坐标系的XOY平面与基准平面平行,重构被测物表面3D轮廓。确定被测物的基准平面,是使用最小二乘法确定调平表面轮廓的基准平面,包括有最小二乘中线法和面内最小二乘法。本发明计算量小,使用简单,处理效率高;最大限度地避免了轮廓的变形;不仅可用于相移显微干涉系统的测量应用中,也可以用于其他测量MEMS/NEMS表面3D轮廓的技术的图像处理中;可以根据不同应用的需求,选择不同的面作为基准,得到不同视角的表面三维轮廓信息,运用灵活。
搜索关键词: 结构 轮廓 测量 基于 坐标 变换 倾斜 误差 补偿 方法
【主权项】:
1.一种微纳结构3D轮廓测量中基于坐标变换的倾斜误差补偿方法,其特征在于,是包括以下步骤:1.采集被测物微纳结构表面的干涉图,计算被测微纳结构表面的初始轮廓图;2.确定被测物的基准平面;3.进行坐标系旋转,使新坐标系的XOY平面与基准平面平行,重构被测微纳结构的表面3D轮廓。
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