[发明专利]用于同时检测Cu2+、Pb2+、Cd2+的阵列式薄膜传感器及其制备方法无效
申请号: | 200610017279.X | 申请日: | 2006-10-24 |
公开(公告)号: | CN1945303A | 公开(公告)日: | 2007-04-11 |
发明(设计)人: | 门洪;王建国 | 申请(专利权)人: | 东北电力大学 |
主分类号: | G01N27/406 | 分类号: | G01N27/406;H01L49/02 |
代理公司: | 吉林市达利专利事务所 | 代理人: | 张瑜声 |
地址: | 132012吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及用于同时检测Cu2+、Pb2+、Cd2+的阵列式薄膜传感器及基制备方法,以p型或n型Si片作基底,在基底上依次为SiO2层,对Cu2+、Pb2+、Cd2+敏感的三种薄膜;该薄膜传感器是通过激光脉冲沉积技术在SiO2表面上制备三种敏感薄膜,采用激光沉积技术把三个敏感材料分别制备在SiO2表面上,最后形成三种阵列式薄膜传感器。它对溶液中的Cu2+、Pb2+、Cd2+具有选择性,能检测出Cu2+、Pb2+、Cd2+的含量。本发明可在江河湖泊、生物医学领域(如血液、体液)、工业废水、中药、蔬菜、水果、茶叶等领域中对Cu2+、Pb2+、Cd2+同时进行定性和定量检测。 | ||
搜索关键词: | 用于 同时 检测 cu sup pb cd 阵列 薄膜 传感器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种用于同时检测Cu2+、Pb2+、Cd2+的阵列式薄膜传感器,以p型或n型Si片作基底,在基底上为SiO2层,SiO2层上面为对Cu2+、pb2+、Cd2+敏感的三种薄膜。
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