[发明专利]用于光刻装置中的传感器无效
| 申请号： | 200610019816.4 | 申请日： | 2006-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN1862382A | 公开（公告）日： | 2006-11-15 |
| 发明（设计）人： | H·V·科克;M·A·范德卡尔霍夫;B·克鲁辛加;T·F·森格斯;B·默斯特;M·A·M·哈斯特;P·W·韦斯布罗特;M·H·G·W·J·舒伦克;T·哈森多尔夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;G01B11/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;黄力行 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于高NA光刻装置中的基底高度处的传感器，其具有覆盖传感元件的透明板，和用于对辐射耦合到该传感元件进行改进的装置，包括菲涅耳透镜、全息光学元件、反转的温斯顿锥体、球面透镜和表面粗糙。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 装置 中的 传感器 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻投影装置中的基底高度处的传感器，该光刻投影装置具有配置为以大于1的数值孔径将带图案的辐射光束投射到基底目标部分上的投影系统，该传感器包括：辐射检测器；具有正面和背面的透射板，该透射板覆盖该辐射检测器，使该投影系统投射的辐射从该透射板的正面射入并从该透射板的背面射出以到达该辐射检测器；以及设置在该透射板背面上的发光层，该发光层吸收辐射，并发出不同波长的发光辐射，其中该背面是粗糙的。
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