[发明专利]自聚集超分子形状记忆材料及其制备方法无效
申请号: | 200610020481.8 | 申请日: | 2006-03-14 |
公开(公告)号: | CN1844199A | 公开(公告)日: | 2006-10-11 |
发明(设计)人: | 张晟;李帮经 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | C08J3/00 | 分类号: | C08J3/00;C08L5/16;C08L101/02;C08K5/05;C08K5/21;C08K5/01 |
代理公司: | 成都科海专利事务有限责任公司 | 代理人: | 吕建平 |
地址: | 610065四川省成都市一环路*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种完全不同于现有技术高分子形状记忆材料的自聚集超分子形状记忆材料及其制备方法。该形状记忆材料由分子量为1,000-500,000的链状线性或支链性大分子组分和串套于大分子组分分子链上的环状分子组分组成,制备方法是先将大分子组分和环状分子组分分别溶于溶剂配制成溶液,然后将两种溶液混合使大分子与环状分子发生聚集,生成的胶凝不溶物质经漂洗、挥干、干燥,即为制取的超分子形状记忆材料。本发明的公开,为形状记忆材料家族增加了一个崭新成员,其制备方法较之现有技术的高分子形状记忆材料的化学合成制备方法大为简单,工艺操作条件也十分宽松。 | ||
搜索关键词: | 聚集 分子 形状 记忆 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种自聚集超分子形状记忆材料,其特征在于由分子量为1,000-500,000的链状线性或支链性大分子组分和串套于大分子组分分子链上的环状分子组分组成,且大分子组分的分子链尺寸与所述环形分子组分的分子环内径匹配吻合。
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