[发明专利]一种原位生长碳纳米管化学修饰电极的制备方法无效
申请号: | 200610022326.X | 申请日: | 2006-11-27 |
公开(公告)号: | CN1987443A | 公开(公告)日: | 2007-06-27 |
发明(设计)人: | 江奇;宋利君;赵勇 | 申请(专利权)人: | 西南交通大学 |
主分类号: | G01N27/30 | 分类号: | G01N27/30 |
代理公司: | 成都博通专利事务所 | 代理人: | 陈树明 |
地址: | 610031四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明涉及一种原位生长碳纳米管化学修饰电极的制备方法,其做法为:在固体电极表面上或表面浅层,用浸渍法、磁控溅射法或电镀法制备并附着用于生长碳纳米管的催化剂;然后使碳源在附着有催化剂的电极上原位生长成碳纳米管。利用这种方法制备的碳纳米管化学修饰电极的电化学性能和检测性能好。 | ||
搜索关键词: | 一种 原位 生长 纳米 化学 修饰 电极 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种原位生长碳纳米管化学修饰电极的制备方法,其做法为:在固体电极表面上或表面浅层,用浸渍法、磁控溅射法或电镀法制备并附着用于生长碳纳米管的催化剂;然后使碳源在附着有催化剂的电极上原位生长成碳纳米管。
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