[发明专利]宽温度范围的高低温循环设备中的热传导机构无效
申请号: | 200610023378.9 | 申请日: | 2006-01-17 |
公开(公告)号: | CN1800868A | 公开(公告)日: | 2006-07-12 |
发明(设计)人: | 吴礼刚;朱三根;龚海梅;李向阳;方家熊;董德平 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26;H01L21/66;G01M19/00;F25B9/14 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 20008*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种宽温度范围的高低温循环设备中的热传导机构,该设备是用于半导体器件的可靠性测试与环境应力筛选的,该热传导机构是针对中国专利200410067891.9,名称为:宽温度范围的高低温循环设备而设计的。它包括:低温热传导机构和高温热传导机。低温热传导机构置于该设备中的液氮子缸外底部,由自上而下依次排列的两面涂有导热硅脂层的环形铟片、过渡冷头和圆形铟片组成。高温热传导机构置于该设备中的加热台上,由环形铟片通过导热硅脂层贴在加热台上构成。本发明的优点是:由于增加了热传导机构,使该高低温循环设备中的传热台的升降温速率大大提高,加快了器件的温度可靠性测试筛选速度。 | ||
搜索关键词: | 温度 范围 低温 循环 设备 中的 热传导 机构 | ||
【主权项】:
1.一种宽温度范围的高低温循环设备中的热传导机构,包括:低温热传导机构和高温热传导机,其特征在于:低温热传导机构置于该设备中的液氮子缸底部外(6),由自上而下依次排列的两面涂有导热硅脂层(1)的环形铟片(2)、过渡冷头(3)和铟片(4)组成;环形铟片(2)和过渡冷头(3)是通过螺钉(5)固定在液氮子缸底部外,圆形铟片(4)通过导热硅脂层(7)贴在过渡冷头(3)上;所说的过渡冷头(3)为圆盆状,中间向下凹,盆边上表面平整,平整度在0.02mm以上,其尺寸与环形铟片相同;盆底下表面也是平整的,平整度在0.02mm以上;过渡冷头的盆底靠近盆边的圆周上均布有数个排气孔(8),便于盆内气体排出;高温热传导机构置于该设备中的加热台(11)上,由环形铟片(9)通过导热硅脂层(10)贴在加热台上构成。
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