[发明专利]高亮度空间相干微焦点X射线源

摘要

一种高亮度空间相干微焦点X射线源，包括电子束产生及控制系统和位于防辐射外壳中的X射线产生腔两部分，1.所述的电子束产生及控制系统由电子束发生装置，电子束聚焦装置和残余电子束收集装置组成，所述的位于防辐射外壳中的X射线产生腔由入射窗，X射线透射靶，X射线出射窗构成。2.所述的电子束发生装置，电子束聚焦装置和残余电子束收集装置，以及X射线产生腔的入射窗，X射线透射靶，X射线出射窗同轴；本发明高亮度空间相干微焦点X射线源，具有普遍适用、高相干性、高亮度、低成本、体积小和稳定性好的特点。

主权项

1、一种高亮度空间相干微焦点X射线源，包括电子束产生及控制系统和位于防辐射外壳中的X射线产生腔两部分，其特征在于：<1>所述的电子束产生及控制系统由电子束发生装置(1)，电子束聚焦装置(2)和残余电子束收集装置(3)组成，所述的位于防辐射外壳中的X射线产生腔(5)由入射窗(501)、X射线透射靶(502)和X射线出射窗(503)构成；<2>所述的电子束发生装置(1)，电子束聚焦装置(2)和残余电子束收集装置(3)，以及X射线产生腔(5)的入射窗(501)、X射线透射靶(502)和X射线出射窗(503)同轴；<3>所述的X射线产生腔(5)中的X射线透射靶(502)由一个圆柱体金属靶材，在两端面各去掉一个圆锥体构成，两圆锥体椎尖相接，形成X射线透射靶中央通光孔，通光孔的孔径D和通光孔的厚度L的选取范围分别为： 1微米≤D≤30微米； 1微米≤L≤100微米；<4>所述的X射线透射靶(502)的入射孔径Din和出射孔径Dout均可根据计算进行调节，所述X射线产生腔(5)的X射线透射靶(502)通光孔中心到入射平面的距离Lin和到出射平面的距离Lout也根据计算调节；<5>所述的X射线透射靶(502)放置于固定在底盘(4)上的六维光学调整架(402)上，其内部为自由空间，保持真空状态或者填入所需稀薄物质；<6>所述的入射窗(501)固定在底盘(4)上的三维光学调整架(401)上，且放置于X射线透射靶(502)的入射平面，入射窗(501)直径与X射线透射靶(502)的入射孔径Din大小相等；<7>所述的出射窗(503)固定于防辐射外壳(6)上，出射窗(503)直径DX与X射线透射靶尺寸满足关系：$\frac{\mathrm{Dx}}{\mathrm{Lx}}\ge \frac{\mathrm{Dout}}{\mathrm{Lout}}.$