[发明专利]制备高分散短碳纳米管的化学剪切方法无效
| 申请号： | 200610023633.X | 申请日： | 2006-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN1807233A | 公开（公告）日： | 2006-07-26 |
| 发明（设计）人： | 王健农;王晓霞;苏连锋;牛钧杰 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 | 代理人： | 王锡麟;王桂忠 |
| 地址： | 200240*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种制备高分散短碳纳米管的化学剪切方法，属于纳米技术领域。本发明采用湿化学的方法在经硝酸纯化的碳纳米管表面沉积金属镍颗粒再利用金属镍的氧化还原反应，对碳纳米管进行化学剪切，从而得到高分散短碳纳米管。因为经酸洗过的碳纳米管表面存在很多缺陷，碳原子不稳定，很容易发生氧化或还原反应，通过镍促使氧化还原反应的发生，从而使碳管壁上的缺陷进一步被刻蚀，达到化学剪切碳纳米管的目的。本发明制备高分散，长度可在200nm以下的短碳纳米管。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 分散 纳米 化学 剪切 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制备高分散短碳纳米管的化学剪切方法，其特征在于，采用湿化学的方法在经硝酸纯化的碳纳米管表面沉积金属镍颗粒再利用金属镍的氧化还原反应，对碳纳米管进行化学剪切，从而得到高分散短碳纳米管。
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