[发明专利]用于投影曝光装置中的位置对准系统以及对准方法

摘要

本发明公开了一种用于投影曝光装置中的位置对准系统以及对准方法，其特征在于：在掩模上设置有通光窗口，位置对准装置所反射出的光线可通过此通光窗口进入光学投影系统；对准过程包括标记摄影装置与承片台基准标记对准，掩模标记与标记摄影装置对准，曝光对象标记与标记摄影装置对准，及相应建立的相对位置关系。其有益效果是，通光窗口的设置、掩模标记对准、承片台基准标记对准以及曝光对象标记对准采用同一套位置对准装置，大大简化了掩模和曝光对象的位置对准装置的结构、减少了位置对准的误差环节，从而直接地降低了成本。另外，上述位置对准装置都处于承版台上方，便于和其它分系统的集成与测试。

主权项

1.一种用于投影曝光装置中的位置对准系统，包括位置对准装置，用于建立掩模和曝光对象之间的相对位置关系，包括照明单元(10)、标记摄影装置(15)和标记照明成像光学单元(17)；曝光光源(20)，用于提供投影曝光装置的曝光光源；标记图像处理单元(16)，用于对掩模标记、承片台基准标记及曝光对象标记在标记摄影装置中所成的像进行处理；掩模(40)，描绘有电路图案的模版；承版台(30)，用于支撑掩模；曝光对象(60)，用于接收掩模上的电路图案通过光学投影系统所成的像；承片台(70)，用于支撑曝光对象；掩模标记(42、43)，设于掩模上，用于掩模的位置对准；承片台基准标记(72)，用于确立掩模和承片台之间的相对位置关系，以及曝光对象和承片台之间的相对位置关系；曝光对象标记(61、62)，设于所述曝光对象上，用于曝光对象的位置对准；承版台和承片台运动控制装置(31、71)，在建立掩模标记和曝光对象标记相对位置的过程中，通过控制承版台和承片台的运动使掩模与曝光对象对准；光学投影系统(50)，利用曝光光源将掩模上所描绘的电路图案以一定放大或缩小的倍率投影成像到曝光对象上；总控制装置(80)，用于对标记图像处理单元、位置对准装置、曝光光源、光学投影系统、承版台运动控制装置和承片台运动控制装置作统一控制；其特征在于：在掩模(40)上还设置有通光窗口，位于掩模标记一侧，位置对准装置所反射出的光线可通过此通光窗口进入光学投影系统；所述位置对准装置只设置有一套。