[发明专利]800纳米波段的石英透射偏振分束光栅无效
| 申请号： | 200610024491.9 | 申请日： | 2006-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN1815276A | 公开（公告）日： | 2006-08-09 |
| 发明（设计）人： | 周常河;王博 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00;G02B27/28 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于800纳米波段的石英透射偏振分束光栅，其特征在于该光栅的周期为598－622纳米、刻蚀深度为2.40－2.50微米，光栅的占空比为1/2。该偏振分束光栅的消光比大于100，TE偏振光的0级透射衍射效率和TM偏振光的1级透射衍射效率分别高于95.61％和96.41％。特别是光栅周期为609纳米，刻蚀深度为2.45微米时，本发明偏振分束光栅的消光比达到1.04×104，TE偏振光0级透射衍射效率为97.23％，TM偏振光1级透射衍射效率为98.25％；本发明石英透射偏振分束光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，可以低成本大批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 800 纳米 波段 石英 透射 偏振 光栅 | ||
【主权项】：
1、一种800纳米波段的石英透射偏振分束光栅，其特征在于该光栅的周期为598-622纳米、刻蚀深度为2.40-2.50微米，光栅的占空比为1/2。
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