[发明专利]一种光掩膜图形位置的检测方法有效
| 申请号： | 200610024959.4 | 申请日： | 2006-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN101042537A | 公开（公告）日： | 2007-09-26 |
| 发明（设计）人： | 李峥;胡振宇 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光掩膜图形位置的检测方法包括：汇总光掩膜版图中的各个填入图形面积，并作为参考总面积；将光掩膜版图中各个填入图形位置与大小输入制图软件中形成填入图形模块版图；将填入图形模块版图输入图形处理软件中计算填入图形模块区域面积，比较所述参考总面积与所述填入图形模块区域面积是否一致；如果比较结果为否，则修正光掩膜版图设计，并重新上述步骤；如果比较结果为是，则结束检测。本发明充分利用电脑以及现有的软硬件资源，通过电脑对数据、图形进行处理，提高了检测效率和检测准确率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光掩膜 图形 位置 检测 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光掩膜图形位置的检测方法，包括：1)汇总光掩膜版图中的各个填入图形面积，并作为参考总面积；2)将光掩膜版图中各个填入图形位置与大小输入制图软件中形成填入图形模块版图；3)将填入图形模块版图输入图形处理软件中计算填入图形模块区域面积，比较该参考总面积与所述填入图形模块区域面积是否一致；4)如果比较结果为否，则修正光掩膜版图设计，并重新步骤1-3；如果比较结果为是，则结束检测。
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