[发明专利]一种具有光催化自洁净功能的TiO2/PI杂化膜及其制备方法无效
申请号: | 200610026077.1 | 申请日: | 2006-04-26 |
公开(公告)号: | CN1844001A | 公开(公告)日: | 2006-10-11 |
发明(设计)人: | 贺蕴秋;张伟进 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;C04B41/81 |
代理公司: | 上海东亚专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈树德 |
地址: | 200092上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种具有光催化自洁净功能的TiO2/PI杂化膜及其制备方法,其特征是在溶胶-凝胶法制备薄膜的过程中,加入有机单体,在钛溶胶水解聚合的同时原位聚合反映形成聚酰亚胺相(PAA),最终经热处理形成纳米晶相TiO2/PI杂化膜。杂化膜的厚度高于一般纯钛溶胶形成的锐钛矿纳米晶相薄膜,可达300nm以上。薄膜在热处理过程中不产生裂纹和剥落等缺陷。选择合适的聚酰亚胺前躯体,可在杂化膜中形成氢键的同时形成Ti-S键,从而使薄膜具有可见光照下的光催化自洁净效应。杂化膜的光催化自洁净效应显著高于一般氧化钛纳米晶薄膜的光催化活性,并具有良好的耐辐射性和化学稳定性。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 光催化 洁净 功能 tio sub pi 杂化膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种具有光催化自洁净功能的TiO2/PI的杂化膜,其特征在于:杂化膜的基体为玻璃和陶瓷等无机材料,由多种组分混合组成钛溶胶,并在其中加入聚合物前驱体混合体,经过热处理,基体表面形成厚度大于300nm的纳米晶TiO2/PI杂化膜。
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