[发明专利]一种投影光学系统有效
| 申请号： | 200610028605.7 | 申请日： | 2006-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN1877454A | 公开（公告）日： | 2006-12-13 |
| 发明（设计）人： | 刘国淦;蔡燕民 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种投影光学系统，其特征在于，所述光学系统包括：一个光轴；一个凹面球面反射镜；一对棱镜，每一个棱镜都具有相应的第一和第二平面，第二平面与第一平正透镜的平面按照与光轴相反的方向紧密接触，而第一平面则分别朝向物方平面和像方平面；一个正透镜组，由一个平凸透镜和一个弯月透镜组成，凸面朝向反射镜；一个望远透镜组，由一个凹凸透镜，一个双凸透镜和一个双凹透镜组成；一个凹面反射镜，凹面朝向物方；本发明可以增加光刻机投影光学系统的工作距离，为工件台和掩模台提供较大的设计空间，另外可以进一步减小设备的体积。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 光学系统 | ||
【主权项】：
1、一种投影光学系统，其特征在于，所述光学系统包括：一个光轴；一个凹面球面反射镜；一组具有正光焦度的透镜组，与球面反射镜间隔一定的距离；按照离反射镜从远到近的距离排列，其特征在于该透镜组包括：一对棱镜，每一个棱镜都具有相应的第一和第二平面，第二平面与第一平正透镜的平面按照与光轴相反的方向紧密接触，而第一平面则分别朝向物方平面和像方平面；一个正透镜组，由一个平凸透镜和一个弯月透镜组成，凸面朝向反射镜；一个望远透镜组，由一个凹凸透镜，一个双凸透镜组成的正透镜和一个双凹负透镜组成。
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