[发明专利]一种烃类裂解装置在线预处理抑制结焦的方法

摘要

本发明涉及一种烃类裂解装置在线抑制结焦的方法。该方法在烃类装置烧焦完毕后，用含有硫、硅和镁的一种或几种化学物质同惰性气体加入到炉管进行预处理，化学物质可以一批或分批加入，预处理温度为400℃～1000℃，预处理时间1～8小时。该技术首先使炉管表面催化剂毒化，然后沉积一层致密的陶瓷涂层。预处理所得涂层致密，表面光滑，且涂层与炉管之间结合紧密，大大减少了烃类裂解装置的结焦，延长了生产周期。该方法具有装置简单、易于实施并可以重复实施的特点，也可以随原料一起加入到裂解炉。经过石脑油裂解试验，与未涂层实验相比结焦降低约68％。

主权项

1、一种烃类裂解装置在线预处理抑制结焦的方法，其特征在于，所述的方法包括如下步骤：1)烃类化合物裂解炉管清焦操作后，在0～3个大气压下，将裂解设备预热至400℃～1000℃温度，将含硫、硅化合物的预处理剂通过载气或原料气加入到烃类裂解炉管，其中硫和硅摩尔比为1∶1～1∶100，然后通入水蒸气，使含硫、硅化合物的预处理剂在载气或原料气和蒸气中的浓度为1-3000ppm，使烃类裂解装置与预处理剂高温气体接触，发生反应，在裂解管内表面沉积出含硫、二氧化硅的混合涂层，涂层处理时间为1-4小时，涂层厚度为2-5μm；2)继续加入含硅的化合物和含镁的化合物，或同时加入含硅镁的化合物，其中镁和硅摩尔比为1∶1～1∶100，处理时间为1～4小时，涂层厚度在2-8μm为宜，硅和镁化合物在载气或原料气和水蒸气中的浓度为1～5000ppm，优选10～2000ppm；其中，含硫、硅的化合物及含硅、镁的化合物分别选自：(1)一种或多种的：含硫、硅的化合物，或含硅和硫的化合物，或含硅化合物、含硫化合物的混合物；(2)一种或多种的：含硅、镁的化合物，或含硅和镁化合物，或含硅化合物、含镁化合物的混合物。