[发明专利]对终点检测状态的监控方法有效
| 申请号： | 200610029247.1 | 申请日： | 2006-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN101108471A | 公开（公告）日： | 2008-01-23 |
| 发明（设计）人： | 王海军;王贝易;程晓华;赵正元 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B49/00 | 分类号： | B24B49/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 顾继光 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对终点检测状态的监控方法，通过预先生成与需要生产的产品有相同结构的光片作为测试片，在生产需要终点检测的研磨工艺产品之前，利用与产品一样的终点检测程序来检知该光片的终点，从而达到监控终点检测是否处于正常状态的目的。本发明可以正确的检知到研磨终点，保证产品的合格率。本发明不仅可以用于监控利用光学原理的终点检测方法，还可以用于监控利用温度变化、电流强度变化的终点检测方法。 | ||
| 搜索关键词： | 终点 检测 状态 监控 方法 | ||
【主权项】：
1.一种对终点检测状态的监控方法，其特征在于：在生产需要终点检测的研磨工艺产品之前，首先生成一种和产品有相同层间膜介质的光片，作为监控终点检测状态正常与否的测试片，研磨该光片，以检测化学机械抛光的终点检测本身是否处于正常状态；当状态正常时，再对产品进行研磨。
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