[发明专利]一种测量两激光干涉仪相交角度非正交性的方法有效
| 申请号： | 200610029297.X | 申请日： | 2006-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN1888982A | 公开（公告）日： | 2007-01-03 |
| 发明（设计）人： | 庄燕子;王帆 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种测量两激光干涉仪相交角度非正交性的方法，通过一专用测量系统，测量专用掩模上专用标记的位置，并计算出两激光干涉仪激光束相交角度的非正交值；该专用测量系统包括：照明系统、放置所述专用掩模的掩模台、用于所述掩模成像的光学系统、工件台、安置在工件台上的像传感器、X、Y向两激光干涉仪。将专用掩模上的掩模标记同工件台上的像传感器上的对应标记对准后，激光干涉仪记录当前工件台的位置；反复这一过程，直至所有标记对准完毕；利用两激光干涉仪测得的数据建模，获得两个激光干涉仪的非正交角度值。以减少测量时间，简化测量过程，实现系统周期性的自动测量校准，从而提高芯片生产的产量和精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 测量 激光 干涉仪 相交 角度 正交 方法 | ||
【主权项】：
1、一种测量两激光干涉仪相交角度非正交性的方法，其特征在于，通过一专用测量系统，测量专用掩模上专用标记的位置，并计算出两激光干涉仪激光束相交角度的非正交值；所述的专用测量系统包括：照明系统、放置所述专用掩模的掩模台、用于所述掩模成像的光学系统、工件台、安置在所述工件台上的像传感器、X、Y向两激光干涉仪。
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