[发明专利]CMOS图像传感器及其制造工艺方法无效
| 申请号： | 200610029339.X | 申请日： | 2006-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN101114660A | 公开（公告）日： | 2008-01-30 |
| 发明（设计）人： | 赵立新;李文强;李杰 | 申请（专利权）人： | 格科微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/146 | 分类号： | H01L27/146;H01L21/822;H01L21/8238 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种CMOS图像传感器，其采用无侧墙结构的MOS晶体管。本发明还公开了该CMOS图像传感器的制造工艺方法，其省略侧墙形成工艺。本发明能降低光电二极管的表面缺陷，改善CMOS图像传感器的光学性能，并降低制造工艺的复杂度和制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | cmos 图像传感器 及其 制造 工艺 方法 | ||
【主权项】：
1.一种CMOS图像传感器，其特征在于，采用无侧墙结构的MOS晶体管。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
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