[发明专利]改善高温淀积氧化膜的面内均匀性的方法有效
| 申请号： | 200610029612.9 | 申请日： | 2006-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN101117707A | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | 方昭蒂;董颖;卢键 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 顾继光 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种改善高温淀积氧化膜的面内均匀性的方法，在使用石英环舟之前，对石英环舟进行刻蚀从而使其厚度变薄。本发明通过对石英环舟进行刻蚀，使得石英环舟的厚度变薄，然后采用这种变薄后的石英环舟制作的高温淀积氧化膜的面内均匀性就大大的得到改善。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 高温 氧化 均匀 方法 | ||
【主权项】：
1.一种改善高温淀积氧化膜的面内均匀性的方法，其特征在于，在使用石英环舟之前，对石英环舟进行刻蚀从而使其厚度变薄。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
