[发明专利]化学机械研磨设备和用于化学机械研磨设备的防溅装置有效
| 申请号： | 200610030076.4 | 申请日： | 2006-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN101125415A | 公开（公告）日： | 2008-02-20 |
| 发明（设计）人： | 刘国平;张阔森;房现飞;闫大鹏 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;H01L21/304;B24B55/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 公开了一种化学机械研磨设备和用于化学机械研磨设备的防溅装置，该研磨设备内安装有一防溅装置，该防溅装置包括安装在化学机械研磨设备内的环状防溅罩和与所述防溅罩相连的升降装置，所述防溅罩侧壁上开有沟槽，所述升降装置具有提升部件，且所述提升部件插入所述沟槽内，将所述防溅罩提升到上位档或下降到下位档。本发明通过在化学机械研磨设备内安装一防溅罩，阻挡飞溅出的研磨液并使其流回，降低了设备的清洗难度，减少了颗粒污染，改善了晶片表面的划痕问题，且操作简便，不会影响正常的装卸片操作。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 设备 用于 装置 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨的防溅装置，其特征在于：所述防溅装置包括安装在化学机械研磨设备内的环状防溅罩和与所述防溅罩相连的升降装置，所述防溅罩侧壁底部开有沟槽，所述升降装置具有提升部件，且所述提升部件插入所述沟槽内，将所述防溅罩提升到上位档或下降到下位档。
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