[发明专利]光刻机曝光成像装置有效
| 申请号： | 200610030637.0 | 申请日： | 2006-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN101135857A | 公开（公告）日： | 2008-03-05 |
| 发明（设计）人： | 伍强 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 顾继光 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机曝光成像装置，在光刻机曝光的光路上设置有下分束板，所述下分束板与光路呈45°夹角，且所述下分束板的反射面朝向被光刻器件的一侧；在经过所述下分束板反射后与光刻光路相垂直的光路上设置有下反射镜，所述下反射镜的法线与所述下分束板的法线相垂直，且所述下反射镜的反射面朝向所述下分束板一侧；在经过所述下反射镜反射之后的光路上设置有图像探测器。本发明光刻机曝光成像装置，通过在成像光路上设置下分束板、下反射镜和上分束板、上反射镜以及图像探测器，能够方便的对光刻机的曝光成像进行采集，大大的简化了图像采集测量的步骤，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 曝光 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机曝光成像装置，其特征在于，在光刻机曝光的光路上设置有下分束板，所述下分束板与光路呈45°夹角，且所述下分束板的反射面朝向被光刻器件的一侧；在经过所述下分束板反射后与光刻光路相垂直的光路上设置有下反射镜，所述下反射镜的法线与所述下分束板的法线相平行，且所述下反射镜的反射面朝向所述下分束板一侧；在经过所述下反射镜反射之后的光路上设置有图像探测器。
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